Team:KIT-Kyoto/Protocol/Japanese
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::20mM NaCl, 2mM Tris-HCl, pH7.5 (25℃) [final concentrations after addition of ethanol:widh 80% ethanol | ::20mM NaCl, 2mM Tris-HCl, pH7.5 (25℃) [final concentrations after addition of ethanol:widh 80% ethanol | ||
:*Buffer EB(Elution Buffer) | :*Buffer EB(Elution Buffer) | ||
- | :10mM Tris-HCl, pH8.5(25℃) | + | ::10mM Tris-HCl, pH8.5(25℃) |
Revision as of 07:32, 28 September 2010
Protocol
液体培地の作製方法LB液体培地(+amp)
LB液体培地(-amp)
2×YT培地
SOB培地
SOC培地
プレート培地の作製方法LBプレート培地(+amp)
LBプレート培地(-amp)
1%アガロースゲルの作り方(4~5枚分)
PCRPCR反応
電気泳動によるPCR産物の確認
アルカリミニプレップ
制限酵素処理
DNAのゲル抽出(QIAGEN kit使用)【実験】
ライゲーション
トランスフォーメーション
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